مقاله بررسی تحلیلی اثر ات الکتریکی ناخواسته ی ناشی از تقلیل ابعا

مقاله بررسی تحلیلی اثر ات الکتریکی ناخواسته ی ناشی از تقلیل ابعاد ترانزیستور هادر نانو لیتوگرافی با استفاده از دو نرم افزار HدرSPICE و SILVACO در pdf دارای 10 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله بررسی تحلیلی اثر ات الکتریکی ناخواسته ی ناشی از تقلیل ابعاد ترانزیستور هادر نانو لیتوگرافی با استفاده از دو نرم افزار HدرSPICE و SILVACO در pdf کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بررسی تحلیلی اثر ات الکتریکی ناخواسته ی ناشی از تقلیل ابعاد ترانزیستور هادر نانو لیتوگرافی با استفاده از دو نرم افزار HدرSPICE و SILVACO در pdf ،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله بررسی تحلیلی اثر ات الکتریکی ناخواسته ی ناشی از تقلیل ابعاد ترانزیستور هادر نانو لیتوگرافی با استفاده از دو نرم افزار HدرSPICE و SILVACO در pdf :
سال انتشار: 1393
محل انتشار: همایش ملی مهندسی برق، مخابرات و توسعه پایدار
تعداد صفحات: 10
نویسنده(ها):
سعید برومند – دپارتمان مهندسی برق، موسسه آموزش عالی پاسارگاد، شیراز، ایران
محمدامیر قاسمی شبانکاره – دانشجوی کارشناس ارشد مخابرات میدان و امواج داشگاه آزاد شیراز
امین فرج زاده – دانشکده مهندسی برق، دانشگاه هرمزگان، بندرعباس، ایران
چکیده:
در این مقاله، یک مدل ریاضی برای توصیف کمیت های اساسی توصیف رفتار کانال یک ترانزیستور اثر میدانی FET توسط نگارنده بسط داده شده است. سپس این مدل را برای توصیف اثرات نامطلوب 1 اثر درین بر کاهش ارتفاع سد پتانسیل 2 پراکندگی حامل ها در سطح 3 یونیزه شدن حامل ها در اثر اعمال میدان بزرگ 4 به دام افتادن حامل ها در وجه مشترک گیت و کانال و 5 اشباع شدن سرعت حامل ها در کانال اصلاح کرده و نشان داده ایم که با کاهش ابعاد ترانزیستور ها و تبعیت از قانون مور برای مدار های مجتمع، ترانزیستور ها با ورود به مقیاس نانو از رفتار و توصیف کلاسیک تبعیت نکرده و برای کنترل موثر کانال توسط ولتاژ گیت، محدود نگه داشتن جریان نشتی، جلوگیری از اثرات تونل زنی و ; بایستی تغییرات چشمگیری در طراحی فیزیکی و لیتوگرافی صورت پذیرد. بخش دوم این مقاله به کد نویسی مدل ریاضی و تحلیل این اثرات با استفاده از دو نرم افزار H-SPICE و SILVACO تخصیص یافته است

کلمات کلیدی :
» نظر